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緊急通知:接USPTO于2025-04-14日下發(fā)的公告,從2025-04-17日起暫停美國(guó)外觀專(zhuān)利申請(qǐng)的加速審查業(yè)務(wù),以解決激增560%的案件壓力,以及微實(shí)體造假的問(wèn)題。
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最全面的專(zhuān)利申請(qǐng)文件及專(zhuān)利附圖要求指南

發(fā)布日期:2018-09-14 作者:賽貝知識(shí)產(chǎn)權(quán)平臺(tái)

我們?cè)谥暗奈恼轮姓劦竭^(guò),申請(qǐng)專(zhuān)利對(duì)企業(yè)和個(gè)人都有很多好處,詳情可查看《除了專(zhuān)利保護(hù),這里有許多你不了解的申請(qǐng)專(zhuān)利的好處》。隨著知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)意識(shí)的普及和提升,很多企業(yè)和個(gè)人都愿意申請(qǐng)專(zhuān)利注冊(cè),但是專(zhuān)利申請(qǐng)的流程比商標(biāo)注冊(cè)要復(fù)雜的多,而且專(zhuān)利注冊(cè)涉及到很多專(zhuān)業(yè)性知識(shí),不僅有專(zhuān)利申請(qǐng)文件,還有專(zhuān)利附圖、專(zhuān)利說(shuō)明書(shū)等嗎,光專(zhuān)利附圖這一項(xiàng)就難倒了很多人??梢?jiàn)專(zhuān)利申請(qǐng)文件還真是一個(gè)大問(wèn)題。


專(zhuān)利


為了便于大家更好的掌握專(zhuān)利注冊(cè)知識(shí),順便申請(qǐng)專(zhuān)利,賽貝知識(shí)產(chǎn)權(quán)平臺(tái)將專(zhuān)利注冊(cè)文件要求及專(zhuān)利申請(qǐng)附圖規(guī)范等做了一個(gè)詳細(xì)整理,以供大家參考。


一、專(zhuān)利申請(qǐng)文件怎么寫(xiě)?


A.請(qǐng)求書(shū)的撰寫(xiě):按照表格的內(nèi)容及提示填寫(xiě)。


B.說(shuō)明書(shū)的撰寫(xiě):按照發(fā)明或?qū)嵱眯滦兔Q(chēng)、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造的目的、技術(shù)方案、有益效果、結(jié)合附圖做進(jìn)一步說(shuō)明、具體實(shí)施方式這些步驟逐一進(jìn)行論述。


C.權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě):應(yīng)以說(shuō)明書(shū)為依據(jù),分獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。當(dāng)有多項(xiàng)權(quán)利要求時(shí),應(yīng)以阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào),一般情況下第1項(xiàng)權(quán)利要求即為獨(dú)立權(quán)利要求,余下為從屬權(quán)利要求,需要對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征做進(jìn)一步限定的,即為從屬權(quán)利要求。獨(dú)立權(quán)利要求通常分前序部分和特征部分。

a.前序部分,寫(xiě)明要求保護(hù)的主題名稱(chēng)以及與現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征;

b.特征部分,使用“其特征是......”或類(lèi)似的用語(yǔ),寫(xiě)明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的獨(dú)到技術(shù)特征。前序部分與特征部分一起,構(gòu)成了該專(zhuān)利申請(qǐng)要求保護(hù)的范圍。


從屬權(quán)利要求的撰寫(xiě)包括引用部分和限定部分。

a.引用部分:寫(xiě)明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱(chēng);

b.限定部分:寫(xiě)明要求保護(hù)的附加技術(shù)特征。


D.說(shuō)明書(shū)附圖的繪制。實(shí)用新型專(zhuān)利必須要有附圖;發(fā)明專(zhuān)利一般有附圖,但如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術(shù)方案的,可以沒(méi)有附圖。


二、專(zhuān)利申請(qǐng)文件附圖有什么要求?


1、專(zhuān)利申請(qǐng)附圖的形式:


a.對(duì)于機(jī)械領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以采用各種視圖反映產(chǎn)品的形狀和結(jié)構(gòu)。

b.對(duì)于電器領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以是電路圖、框圖、示意圖;

c.對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以用化學(xué)結(jié)構(gòu)式作為附圖;

d.對(duì)于方法發(fā)明,附圖可以是表示該方法各步驟的工藝流程圖。


2、專(zhuān)利申請(qǐng)附圖的要求:


a.附圖應(yīng)當(dāng)符合機(jī)械制圖國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),即應(yīng)當(dāng)使用繪圖工具(或電 腦繪圖),用黑色墨水繪制,線條均勻清晰,圖面不著色,圖周?chē)患涌蚓€,不要使用鉛筆圓株筆繪制,但附圖不用標(biāo)注比例和尺寸數(shù)據(jù)。

b.附圖的大小和清晰度,應(yīng)當(dāng)保證圖縮小到4×6厘米時(shí),仍能清晰地分辨出圖中的各個(gè)細(xì)節(jié),并符合照相制版的要求;

c.同一專(zhuān)利申請(qǐng)的幾幅附圖,可以繪制在同一張專(zhuān)用格式的紙上,并用阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào),用“圖××”的形式來(lái)表示。

d.同一專(zhuān)利申請(qǐng)有多頁(yè)附圖的,應(yīng)用阿拉伯?dāng)?shù)字連續(xù)編寫(xiě)頁(yè)碼;

e.同一專(zhuān)利申請(qǐng)中使用的附圖標(biāo)記必須前后一致,在說(shuō)明書(shū)中未提及的標(biāo)記不得在附圖中出現(xiàn);

f.附圖中除必要的詞語(yǔ)外,不應(yīng)當(dāng)含有其它注釋。


三、專(zhuān)利申請(qǐng)說(shuō)明書(shū)摘要的撰寫(xiě):


a.摘要應(yīng)當(dāng)寫(xiě)明發(fā)明或者實(shí)用新型所屬的技術(shù)領(lǐng)域、需要解決的技術(shù)問(wèn)題、主要技術(shù)特征和用途。對(duì)申請(qǐng)實(shí)用新型的產(chǎn)品應(yīng)寫(xiě)出其形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合的特征。不應(yīng)寫(xiě)成廣告或單純產(chǎn)品的功能介紹;


b.摘要不應(yīng)加標(biāo)題,可以連續(xù)書(shū)寫(xiě);


c對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明,摘要可以包括申請(qǐng)的化學(xué)式中最能說(shuō)明發(fā)明特點(diǎn)的一個(gè)化學(xué)式。摘要也可以包括數(shù)學(xué)式或反應(yīng)式。


d.摘要不用分段,全文不得超過(guò)200字。


四、專(zhuān)利申請(qǐng)摘要附圖的繪制要求:


對(duì)于說(shuō)明書(shū)中有附圖的,應(yīng)單獨(dú)提交一幅從說(shuō)明書(shū)附圖中選出的、最能說(shuō)明技術(shù)特征的一個(gè)附圖,來(lái)作為摘要附圖,附圖的大小和清晰度應(yīng)保證在該圖縮小到4×6厘米時(shí),仍能清晰地分辨出圖中的各個(gè)細(xì)節(jié)。


以上就是專(zhuān)利申請(qǐng)文件及專(zhuān)利附圖的要求和相關(guān)內(nèi)容,專(zhuān)利注冊(cè)涉及的專(zhuān)業(yè)知識(shí)較多,門(mén)檻較高,而且專(zhuān)利申請(qǐng)周期較長(zhǎng),尤其是發(fā)明專(zhuān)利,從提交專(zhuān)利申請(qǐng)到拿到專(zhuān)利授權(quán)書(shū)需要2-3年的時(shí)間,很多專(zhuān)利申請(qǐng)人沒(méi)有辦法將太多的精力投放在上面,耽誤了重要的時(shí)間節(jié)點(diǎn),導(dǎo)致專(zhuān)利申請(qǐng)失敗。賽貝知識(shí)產(chǎn)權(quán)平臺(tái)提供一站式專(zhuān)利托管服務(wù),專(zhuān)業(yè)團(tuán)隊(duì)實(shí)時(shí)監(jiān)控專(zhuān)利申請(qǐng)狀態(tài),對(duì)于可存在的風(fēng)險(xiǎn)提前預(yù)警通知專(zhuān)利申請(qǐng)人做好應(yīng)對(duì)措施,幫助大家更好的申請(qǐng)和管理專(zhuān)利。


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